অর্ধপরিবাহী সাধনী নির্মাণ: সংশোধিত সংস্করণের মধ্যে পার্থক্য

বিষয়বস্তু বিয়োগ হয়েছে বিষয়বস্তু যোগ হয়েছে
Zaheen (আলোচনা | অবদান)
সংজ্ঞা সংশোধন
Zaheen (আলোচনা | অবদান)
সংশোধন
১ নং লাইন:
{{অর্ধপরিবাহী উৎপাদন প্রক্রিয়া}}
'''অর্ধপরিবাহী সাধনী নির্মাণ''' বা ইংরেজি পরিভাষায় '''সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস ফ্যাব্রিকেশন''' (Semiconductor Device Fabrication) হলো অর্ধপরিবাহী সাধনীসমূহ (অর্থাৎ বিশেষ উদ্দেশ্যসাধক যন্ত্রসমূহ) শিল্পোৎপাদনের প্রক্রিয়া। অর্ধপরিবাহী সাধনী বলতে মূলত ধাতব-অক্সাইড-অর্ধপরিবাহী সাধনীগুলিকে বোঝায়, যেগুলি সমন্বিত বর্তনী (যেমন আধুনিক পরিগণক যন্ত্রের (কম্পিউটার) অণুপ্রক্রিয়াজাতকারক বা মাইক্রোপ্রসেসর), অণুনিয়ন্ত্রক (মাইক্রোকন্ট্রোলার), এবং স্মৃতি চিলতে (যেমন ন্যান্ড ফ্ল্যাশ বা ডির‍্যাম), ইত্যাদি দৈনন্দিন ব্যবহার্য প্রায় সমস্ত বৈদ্যুতিক ও ইলেকট্রনীয় (বৈদ্যুতিন) সাধনীতে বিদ্যমান। এটি আলোক-প্রস্তরলিখন এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াজাতকরণসহ একাধিক ধাপবিশিষ্ট একটি প্রক্রিয়া (যেমন পৃষ্ঠের নিষ্ক্রিয়করণ, [[তাপীয় জারণ]], [[প্ল্যানার বিচ্ছুরণ]] এবং [[পি–এন সংযোগ অন্তরণ|সংযোগ অন্তরণ]]), যার মাধ্যমে ধীরে ধীরে খাঁটি [[অর্ধপরিবাহী]] উপাদানে তৈরি একটি পাতলা চাকতি বা ওয়েফারে [[ইলেকট্রনিক বর্তনী]] তৈরি করা হয়। অর্ধপরিবাহী হিসেবে প্রায় সর্বদা [[সিলিকন]] ব্যবহৃত হয়, তবে বিশেষায়িত প্রয়োগের জন্য বিভিন্ন যৌগিক অর্ধপরিবাহী ব্যবহৃত হয়।
 
[[সমন্বিত বর্তনী|সমন্বিত বর্তনীতে]] (আইসি) ব্যবহৃত [[মসফেট|ধাতু-অক্সাইড-অর্ধপরিবাহী]] (এমওএস) যন্ত্রসমূহ, যেমন কম্পিউটারের প্রসেসর, মাইক্রোকন্ট্রোলার এবং মেমরি চিপ যেমন [[ফ্ল্যাশ মেমোরি#ন্যান্ড ফ্ল্যাশ|ন্যান্ড ফ্ল্যাশ]] এবং ডির‍্যাম যা দৈনন্দিন [[তড়িৎ|বৈদ্যুতিক]] এবং [[ইলেকট্রন বিজ্ঞান|ইলেকট্রনিক]] যন্ত্রে ব্যবহৃত হয়, তা এই প্রক্রিয়ার মাধ্যমে উৎপাদন করা হয়।
 
এটি আলোক লিথোগ্রাফিক এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণসহ একাধিক ধাপের প্রক্রিয়া (যেমন পৃষ্ঠের প্যাসিভিশন, [[তাপীয় জারণ]], [[প্ল্যানার বিচ্ছুরন]] এবং [[পি–এন সংযোগ অন্তরণ|সংযোগ অন্তরণ]]), যার মাধ্যমে ধীরে ধীরে খাঁটি [[অর্ধপরিবাহী]] উপাদানে তৈরি একটি ওয়েফারে [[ইলেকট্রনিক বর্তনী]] তৈরি করা হয়। [[সিলিকন]] প্রায় সর্বদা ব্যবহৃত হয়, তবে বিশেষায়িত প্রয়োগের জন্য বিভিন্ন যৌগিক অর্ধপরিবাহী ব্যবহৃত হয়।
 
শুরু থেকে বন্টনের জন্য প্রস্তুত মোড়কীকৃত চিলতে পর্যন্ত সম্পূর্ণ উৎপাদন প্রক্রিয়ার জন্য ছয় থেকে আট সপ্তাহ সময় প্রয়োজন এবং এ প্রক্রিয়াটি অত্যন্ত বিশেষায়িত অর্ধপরিবাহী নির্মাণ কারখানাতে পরিচালনা করা হয়, যাকে অর্ধপরিবাহী কারখানা (ইংরেজিতে সেমিকন্ডাক্টর ফাউন্ড্রি বা সংক্ষেপে ফ্যাব) বলা হয়।<ref name="berlin-regression-methods">Neurotechnology Group, Berlin Institute of Technology, IEEE Xplore Digital Library. “[https://ieeexplore.ieee.org/document/6570490 Regression Methods for Virtual Metrology of Layer Thickness in Chemical Vapor Deposition].” ১৭ জানুয়ারি, ২০১৪। সংগ্রহের তারিখ ৯ নভেম্বর, ২০১৫।</ref> সকল নির্মাণকাজ একটি [[নির্মল কক্ষ|নির্মল কক্ষের]] ভিতরে সংঘটিত হয়, যা কারখানার কেন্দ্রীয় অংশ। আধুনিক [[১৪ ন্যানোমিটার|১৪]]/[[১০ ন্যানোমিটার|১০]]/[[৭ ন্যানোমিটার]] গ্রন্থির মতো আরও উন্নত অর্ধপরিবাহী সাধনী নির্মাণের জন্য গড়ে ১৫ সপ্তাহ পর্যন্ত সময় লাগতে পারে।<ref>{{Cite web|url=http://chinawaterrisk.org/resources/analysis-reviews/8-things-you-should-know-about-water-and-semiconductors/|title=8 Things You Should Know About Water & Semiconductors|website=ChinaWaterRisk.org|language=en-US|access-date=2017-09-10}}</ref> উন্নত নির্মাণ কারখানায় উৎপাদন প্রক্রিয়াটি সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয়ভাবে নির্বাহ করা হয় এবং উৎপাদনের ফলন হার বা ইল্ড (একটি পাতলা সিলিকন চাকতি বা ওয়েফারের মধ্যে সঠিকভাবে কাজ করে এমন মাইক্রোচিপের শতাংশ) করতে অভেদ্যভাবে বদ্ধ নাইট্রোজেন পরিবেশে পরিচালিত হয়, এবং এক যন্ত্র থেকে অন্য যন্ত্রে পাতলা চাকতি পরিবহনের জন্য স্বয়ংক্রিয় উপাদান পরিচালনা ব্যবস্থা ব্যবহৃত হয়। ওয়েফারগুলি FOUP নামের বিশেষ সিলযুক্ত প্লাস্টিকের বাক্সগুলির ভিতরে পরিবহন করা হয়। সকল যন্ত্রাংশ এবং FOUP গুলির অভ্যন্তরে নাইট্রোজেন বায়ুমণ্ডল ধারণ করে। যন্ত্রপাতি এবং FOUP এর ভিতরে বাতাস সাধারণত নির্মল কক্ষের আশেপাশের বাতাসের তুলনায় আরও বেশি পরিষ্কার রাখা হয়। এই অভ্যন্তরীণ পরিবেশটি একটি অণুপরিবেশ (মাইক্রোএনভায়রনমেন্ট) হিসাবে পরিচিত।<ref>{{Cite journal|url=https://www.semanticscholar.org/paper/Clean-room-Technologies-for-the-Mini-environment-Kure-Hanaoka/5c000e7c2022761af486e82bceb6ba541e2bd6de|title=Clean-room Technologies for the Mini-environment Age|last2=হানাওকা|first2=হিডেও|date=October 23, 2007|সাময়িকী=|first1=টি.|last1=কুরে|first3=টি.|last3=সুগিউরা|first4=এস.|last4=নাকাগাওয়া|website=www.semanticscholar.org|s2cid=30883737}}</ref> উৎপাদনের যন্ত্রপাতি এবং FOUP এর অভ্যন্তরীণ বায়ুমণ্ডল বজায় রাখার জন্য সংকর নির্মাণ স্থাপনাগুলিতে প্রচুর পরিমাণে তরল নাইট্রোজেনের প্রয়োজন হয়, যা ক্রমাগত নাইট্রোজেন দিয়ে পরিষ্কার করা হয়।<ref>{{Cite web|url=https://www.fabmatics.com/products/storage/purge-systems/foup-purge/|title=FOUP Purge System - Fabmatics: Semiconductor Manufacturing Automation|website=www.fabmatics.com}}</ref>